光刻機和刻蝕機的區別是光刻機把圖案印上去，而刻蝕機是根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案或者無圖的部分，留下剩餘的部分，光刻機利用的是光學和化學反應原理和化學以及物理刻蝕方法。光刻機（MaskAligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。
