佳能光刻機22納米，光刻機是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。光刻機可以分鐘兩種，分別是模板和圖樣大小一致的contactaligner，曝光時模板緊貼芯片；第二是類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。
國內目前做光刻機的主要有上海微電子裝備有限公司、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。其中，上海微電子裝備有限公司已經量產的是90納米，這是在中國最領先的技術。其國家科技重大專項“極大規模集成電路製造裝備與成套工藝專項“的65nm光刻機研製，目前正在進行整機考覈。對於光刻機技術來說，90納米是一個技術臺階；45納米是一個技術臺階；22納米是一個技術臺階……90納米的技術升級到65納米不難，但是45納米要比65納米難多了。路要一步一步走，中國16個重大專項中的02專項提出光刻機到2020年出22納米的。目前主流的是45納米，而32納米和28納米的都需要深紫外光刻機上面改進升級。
