真空鍍膜機：主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。原理：它由高壓部分和自動復位部分組成。高壓部分包括三相高壓變壓器，三相橋式整流，RC阻容吸收網絡,高壓分壓器。自動復位部分包括主開關電路，電流檢測電路，柵壓切換電路，簾柵控制電路。
