光刻機（MaskAligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。低納米光刻機，是分辨率較高，精確到納米的光刻機。2018年11月29日，國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的芯片。
