三氟化氮，化學式ＮＦ3，常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作爲一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解爲活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片製造、高能激光器方面得到了大量的運用。三氟化氮是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。吸入高濃度ＮＦ３可引起頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度ＮＦ３能損傷牙齒和骨骼，使牙齒生黃斑，骨骼成畸形。與還原劑能發生強烈反應，引起燃燒爆炸。
